CNC(=O)c1cc(Oc2ccc(NC(=O)Nc3cc(C(C)(C)C)nn3-c3ccc4ncccc4c3)c(F)c2)ccn1 CHEMBL1738757 Kd apparent 2.0 nM
Cc1nc2cc(-c3nn(C(C)C)c4ncnc(N)c34)ccc2o1 CHEMBL3991933 Kd apparent 18.0 nM
CCNC(=O)Nc1ncc(-c2cc(-c3c(C)cc(OC)cc3C)nc(-c3cnccn3)n2)s1 CHEMBL2070615 IC50 252.0 nM
CCC(CC)Oc1cc(C)c(-c2cc(-c3cnc(NC(=O)NC)s3)nc(-c3cnccn3)n2)c(C)c1 CHEMBL2070613 IC50 415.0 nM
CNC(=O)Nc1ncc(-c2cc(-c3c(C)cc(OC)cc3C)nc(-c3cnccn3)n2)s1 CHEMBL2070614 IC50 415.0 nM
COc1cc(C)c(-c2cc(-c3cnc(NC(C)=O)s3)nc(-c3cnccn3)n2)c(C)c1 CHEMBL2070616 IC50 612.0 nM
CN1C(=O)[C@@H](N2CCc3cn(Cc4ccccc4)nc3C2=O)COc2ccccc21 CHEMBL4088216 pIC50 1000.0 nM
CN1C(=O)[C@@H](N2CCc3c(nn(Cc4ccccc4)c3Br)C2=O)COc2ccccc21 CHEMBL4549667 pIC50 1000.0 nM
CN1C(=O)[C@@H](N2CCc3cn(CC4CCS(=O)(=O)CC4)nc3C2=O)COc2ccccc21 CHEMBL4097778 pIC50 1000.0 nM